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行业动态|新型钼基材料助力半导体微缩化革命:高纯度钼前驱体引领ALD技术突破
【导语】随着半导体工艺向3nm以下节点迈进,传统铜互连技术因电阻率攀升与电迁移问题面临严峻挑战。全球半导体设备巨头Lam Research早前宣布推出全球首款钼(Mo)原子层沉积···
2025-08-08
37
低温液相前驱体法为高熵陶瓷材料应用开辟新路径
高熵陶瓷是近年来材料科学领域的前沿研究方向,其通过将五种及以上金属元素以等摩尔比固溶于单一晶格中,形成“高熵效应”,从而展现出远超传统陶瓷的力学性能、热稳定性和···
2025-04-21
11
TaC与SiC化学气相共沉积的热力学研究为超高温涂层设计提供新思路
TaC-SiC复合涂层抗热震性优于单一TaC涂层,是超高温涂层领域的重要研究方向。但相关共沉积实验影响变量多,实验量巨大,通过热力学计算预测各个影响因子对共沉积过程的影响···
2025-04-07
7
通过一种新型催化剂辅助热解法使用HfCl₄作为前驱体在碳纤维上合成HfC纳米线
碳化铪(HfC)是一种超高温陶瓷(UHTCs)的关键组成部分,具有极高的熔点(约3900°C)、显著的硬度(26.1 GPa)、高弹性模量(425 GPa)以及出色的热稳定性和化学稳定性。···
2025-03-24
9
GaN表面高导热金刚石和Ta-C复合涂层
GaN表面高导热金刚石和Ta-C复合涂层
2025-03-03
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